光刻机原理 进来看看
1、光刻机制作芯片的过程,基本和“冲印照片”一样。假设拍的是风景,胶片上会有曝光痕迹,先要在暗室里显影,让风景在胶片上显示出来。然后在红光下通过放大机,把胶片上的风景投射到相纸上,让相纸曝光。再通过相纸的显影、定影、烘干得到最终的照片。除了风景之外,“照片冲印”需要有胶片,有光源、放大机、相纸。
2、对光刻机来说,所谓“风景”就是设计好的集成电路图(IC),“胶片”就是一块石英板(光罩),用来记录集成电路图,“相纸”就是硅晶圆,“放大机”就相当于光刻机。
3、所不同的是,洗照片是放大,把小胶片放大到相纸上,光刻机是缩小,把电路图缩小到晶圆上。
4、在光刻机领域,有三家国际大牌:荷兰ASML(艾斯摩尔),日本Nikon(尼康),日本Canon(佳能)。但高端光刻机市场,荷兰ASML是无可争议的世界霸主,把第二名都甩得很远,因为技术难度太高、需要的投资太大,尼康、佳能已经放弃EUV光刻机的研发。
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