光刻機用來幹嘛 光刻機的工作原理是怎樣的
1、用途。
光刻機是晶片製造的核心裝置之一,按照用途可以分為好幾種:有用於生產晶片的光刻機;有用於封裝的光刻機;還有用於LED製造領域的投影光刻機。
用於生產晶片的光刻機是中國在半導體裝置製造上最大的短板,國內晶圓廠所需的高階光刻機完全依賴進口,本次廈門企業從荷蘭進口的光刻機就是用於晶片生產的裝置。
2、工作原理。
在加工晶片的過程中,光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小後對映到矽片上,然後使用化學方法顯影,得到刻在矽片上的電路圖。
一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、鐳射刻蝕等工序。經過一次光刻的晶片可以繼續塗膠、曝光。越複雜的晶片,線路圖的層數越多,也需要更精密的曝光控制過程。
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